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보도자료

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반도체 초순수, 국산화 민관 연구개발 본격 착수
반도체 초순수, 국산화 민관 연구개발 본격 착수

◇ 환경부-한국수자원공사-한국환경산업기술원, 업계와 고순도 공업용수 통합 국산화 기술개발(R&D) 사업 착수
◇ 반도체 필수원료인 초순수의 생산기술을 국산화하여 국가 물산업 경쟁력 확보에 기여


 
□ 환경부(장관 한정애)는 한국수자원공사, 한국환경산업기술원과 함께 ‘고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’ 사업에 착수하고, 이를 통해 반도체 사업의 필수원료인 초순수의 생산기술 국산화를 본격적으로 추진한다고 밝혔다.
 
   ○ ‘고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’은 지난 2019년 일본의 수출규제에 대응하기 위한 조치 중 하나로 추진되었으며, 국산기술을 활용하여 반도체 공정 등에서 사용되는 고순도 공업용수를 생산 및 공급하는 기술개발(R&D) 사업이다.
 
□ 초순수(Ultra Pure Water)는 수 백개의 반도체 생산 단위공정 중에 나오는 부산물, 오염물 등을 세정할 때 쓰이는 필수 공업용수로 초미세회로(nano meter, 10-9m)로 구성된 반도체를 세척해야 하기 때문에 총유기탄소량(TOC)의 농도가 ‘10억분의 1(ppb)’ 이하일 정도로 고순도를 유지해야 한다.
  
   ○ 그간 우리나라에서는 반도체 사용 용수의 약 50%를 차지하는 초순수 공업용수의 생산·공급을 일본 등 해외업체에 의존했으며, 특히 공정설계, 초순수 배관, 수처리 약품 등을 일본에 의존하고 있어 수출규제 등 외부환경에 매우 취약한 상황이다.
 
□ 환경부는 올해부터 고순도 공업용수 생산을 위한 핵심부품인 자외선 산화장치(UV)와 용존산소 제거용 탈기막 국산화 기술개발에 착수했다.
 
   ○ 이와 함께, 한국수자원공사는 2025년까지 하루에 2,400톤의 초순수를 생산하는 실증플랜트를 실제 반도체 공급업체에 설치·운영할 계획이며, 초순수 생산 시설이 완료되면 반도체 설계·시공·운영 단계별로 쓰이는 초순수 공정의 최대 60%를 국산화할 것으로 기대된다.
 
   ○ 공공기관*과 관련 업계**가 △초 저농도 유기물 제거용 자외선 산화장치, △ 초 저농도 용존산소 제거용 탈기막, △고순도 공업용수 설계-시공-운영 통합 △고순도 공업용수 공정 및 수질 성능평가, △반도체 폐수를 이용한 고순도 공업용 원수 확보 등 5개의 세부과제별 기술개발을 목표로 삼아 2025년까지 추진한다.
     * 한국수자원공사, 한국산업기술시험원, 한국물기술인증원, 한국건설기술연구원
     ** ㈜에코셋, ㈜네오텍, ㈜클루, ㈜세프라텍, 한성크린텍, 진성이엔씨, ㈜태영건설, 해성엔지니어링㈜, 디에치테크㈜, ㈜케에피아이엔디
 
   ○ 현재 한국수자원공사는 실증플랜트 구축을 위해 수요처와 협의 중에 있으며, 구축 및 활용계획 등을 검토하여 실증플랜트를 설치할 대상지를 연내에 확정할 예정이다.
 
□ 김동진 환경부 수자원정책관은 “고순도 공업용수는 비단 반도체 뿐만 아니라 제약·바이오·정밀화학 등 고부가가치 산업에서 수요가 점차 확대되고 있다”라며,
 
   ○ “이번 기술개발 사업이 차질없이 이행될 경우 해외 기술 의존도 탈피와 더불어 국내 수처리 업계의 해외 시장 진출 기반을 마련하는 발판이 될 것”이라고 밝혔다.
 

붙임 1. 고순도 공업용수 국산화 기술개발 사업 개요.
        2. 초순수 개요 및 생산공정. 끝.
 
  • 담당부서: 홍보실
  • 전화번호: 02-2284-1243
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